摘要：文章详细介绍了薄膜材料制备的各种方法，包括真空蒸发法、真空溅射法、脉冲激光沉积法、分子束外延法、化学气相沉积法、化学浴沉积法、电沉积法、溶胶一凝薄膜最终制成品无熔点，超过500℃急剧分解。表1列出了厚度为25μm的聚酰亚胺薄膜的基本性能。制备[2-3] 1)均苯型聚酰亚胺树脂的合成早在1908年Bogart等首先
溶液流延法制膜是先将树脂材料溶于有机溶剂塑料薄膜，做成浓度为10%~35%的溶液，并将其过滤、消泡，随后送入流延机，利用流延嘴使溶液流延成一定厚度的塑料薄膜。5、拉伸法拉伸法是将薄膜制备成膜基片蒸发膜层本章的主要内容3.1成膜方法的分类3.2各种成膜方法的比较3.3物理气相沉积3.4化学气相沉积成膜方法的分类成膜方法有很多，分类方法也各
然后将基体放入烘箱内烘烤或在自然条件下干燥" 从而制备出各种相应所需的纳米薄膜) 溶胶，凝胶法是一种经济- 方便& 有效的薄膜制备方法) 目前" 人们已用溶胶，凝胶法制备了溶胶-凝胶法是以金属醇盐或其他金属无机盐的溶液作为前驱体溶液，在低温下通过溶液中的水解、聚合等化学反应，首先生成溶胶，进而生成具有一定空间结构的凝胶，然后经过热处理或减压干
薄膜的制备方法•薄膜的制备方法可分为：液相法和气相法•气相沉积技术分为：物理气相沉积和化学气相沉积。•物理气相沉积：（PVD)(1)真空蒸镀(2)溅射镀膜(3)离子镀膜•化学气相沉积：CVD)(1)1、薄膜制备方法1. 物理气相沉积法(pvd):真空蒸镀、离子镀、溅射镀膜2. 化学气相沉积法(cvd):热cvd、等离子cvd、有机金属cvd、金属cvd。1、真空蒸镀即真空蒸发镀膜，是制备薄膜最
薄膜材料的制备方法多种多样，以下是一些常用的薄膜制备方法：1. 物理气相沉积（PVD，Physical Vapor Deposition）：通过物理过程将固态材料转化为气态，然后在基主要方法有：、真空蒸发(Vacuumevaporat ion 真空蒸发镀膜，这是制备薄膜最一般的方法。这种方法是把装有基片的真空室抽成真空，使气体压强达到10- Pa以下，然后
