ˋ＾ˊ 三、中国光刻机发展之路上海微电子是国内具有很大期望的光刻机企业，在2020年的时候上海微电子就已经表示在未来2021-2022年的时候可以交付一台28nm的光刻机，然而由于各种原因到现在清华1980年研制成功的第四代光刻机，精度达到3微米，接近国际主流光刻机水平。但是，80年代后光刻机项目下马，从此我国芯片产业就落下帷幕，到2020年，中国的手机芯片被扼住了咽喉。
╯ω╰ 由于《瓦森纳协定》的限制，中国不能获取国外最新的科技技术及设备。拿光刻机来说，在2015年如果是美国的英特尔、韩国的三星等能买到荷兰ASML公司10nm的光刻机，那么中国的相关企业就只能买到他们201一说早在1965年，中国科学院便研制出了65型接触式光刻机。如果不考虑性能上的差距，美国第一台接触式光刻机是由GCA公司于1961年制造的，彼此间只差了4年。彼时的中国人憋着一股“超
∪﹏∪ “绝sha”，毕竟那时出国开眼界对于大多数企业家来说有着极大的吸引力，于是清华大学的光刻机订单接连被取消，使得清华大学研制的光刻机一举丢失国内市场，而在没有市场前景的情况下，徐本以为中国光刻机的辉煌征程即将开始，谁也没料到那就是巅峰。为什么会这样呢？首先是经济比较落后，搞科研是需要大量的资金投入。但在80年代，中国经济比较
而中国半导体行业则被卡在了新型光刻机的研发门槛上，每年耗费着数额不小的研发经费，但产出的成果却不尽如人意。值得庆幸的是，在中科院微电子研究所经过十余年艰辛攻关后，中国还美国试图利用光刻机打击中国的芯片产业，但光刻机领域的全球霸主，ASML公司的总裁反对称“如果不把光刻机卖给中国，大概三年，中国自己就会掌握这门技术”。这么说不是没有根据，其实中
